從離子源核心零組件到整機系統的垂直整合研發能力
特殊合金材料與「電子雲」中和結構，實現無污染、高電離效率。
IBS/IBE技術支持超光滑（Ra<0.2nm）與奈米級深度的精準控制。
光控系統、真空模擬、機器學習演算法，確保量產製程的高重複性。
包含射頻、霍爾、矩形等多元離子源技術，滿足不同製程需求。
涵蓋蝕刻 (Etching)、濺鍍 (Sputtering)、輔助沉積 (Assisted) 三大核心製程。
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整機系統 | 智慧控制 | 量產驗證
專為精密光學薄膜量產設計。配備雙離子源及全自主光控系統，膜層致密度高、牢固度強。為一高穩定、高精準、高效率之專業量產設備。
追求極致的超低損耗與超高致密性。適用於雷射陀螺、雷射晶片腔面等極端品質需求，是半導體、航太與高端光學的首選。
奈米級高精度蝕刻與修形。支持傾斜蝕刻、高深寬比加工及複雜微納結構製造（如斜光柵、光波導），解決高難度製程的痛點。
賦能多產業的高端製造與製程突破
雷射陀螺、窄頻濾光片
晶圓蝕刻、晶片鍍膜
高效能電池TCO薄膜
極端環境功能薄膜
I-Star Technology
作為博頓光電在台灣的獨家代理，我們提供專業的設備引進、製程諮詢及在地化技術支援服務。
